•主机:GM-100粉末ALD主机(含旋转流化反应腔)
•手套箱:双工位惰性气氛手套箱(水氧<1 ppm)
•前驱体系统:8路前驱源瓶(双管式、可加热)+ 2路气体MFC
•真空单元:油泵、泵前过滤、ALD尾气处理、真空规
•温控系统:反应腔双区加热、前驱体独立加热、管路伴热
•控制单元:PLC+触摸屏HMI、自动阀组、脉冲时序控制
实现高精度、高均匀性的纳米薄膜沉积,包覆均一性可控制在 3% 以内可用于沉积多种材料:如氧化物、氯化物等纳米薄膜。
•样品处理能力:最大装载量 100g 粉末;样品桶容积 0.33L,最大装料容积 0.13L
•反应腔温度:室温(RT)~300℃,双区精准控温
•前驱体系统
◦最大配置:2组反应气体 + 8组液态/固态前驱体
◦前驱体加热:室温~200℃,独立控温