配有氮气一瓶，空气一瓶，高纯氩气一瓶，氩气一瓶，无油空气压缩机一台，冷却水循环机一台，三相感应电动机一台，低温真空机一台

具备垂直、共聚焦、基片旋转等多种溅射功能，主要用于光电子材料的制备。

多靶直流/射频磁控溅射工作台（可以升级为射频偏压工件台），上溅射或下溅射可选，不锈钢真空室，带观察窗，共焦溅射或垂直溅射可选，全自动单片或多片进样室，可处理直径12英寸工件盘，多种电源可选，以适应不同材料和工艺要求。